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J-GLOBAL ID：200903078132165178

微細構造部品の製造方法

Inventor： 中林 明 ,  木村 高志
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 須田 正義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996092913
Publication number (International publication number)：1997279366
Application date： Apr. 16, 1996
Publication date： Oct. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】断面形状が高アスペクト比を有する微細構造部品であっても、良好な加工精度を得ることができ、かつ生産性を向上できる。【解決手段】ベースメタル層11を支持用金属板10上に形成し、ベースメタル層上にフォトレジスト層12を形成する。フォトレジスト層に所定のパターンのマスク13を施して露光し、露光したフォトレジスト層を現像することにより微細構造部品となる部分を除去して残存するフォトレジスト層に開口部12aを形成する。開口部の底部にベースメタル層の金属と同一の金属からなる金属被膜15をめっきにより形成し、金属被膜を形成した開口部に微細構造部品となる金属層14をめっきにより形成する。残存するフォトレジスト層を除去し、支持用金属板からベースメタル層を金属被膜と金属層とともに剥離し、更にベースメタル層及び金属被膜を除去して金属層からなる微細構造部品を得る。

Claim (excerpt)：

微細構造部品となる金属層(14)と結合可能なベースメタル層(11)をこのベースメタル層(11)に対して剥離性のある平坦かつ平滑な支持用金属板(10)上にめっきにより形成する工程と、前記ベースメタル層(11)上にフォトレジスト層(12)を形成する工程と、前記フォトレジスト層(12)に所定のパターンのマスク(13)を施して露光する工程と、前記露光したフォトレジスト層(12)を現像することにより微細構造部品となる部分を除去して前記残存するフォトレジスト層(12)に開口部(12a)を形成する工程と、前記開口部(12a)の底部に前記ベースメタル層(11)の金属と同一の金属からなる金属被膜(15)をめっきにより形成する工程と、前記金属被膜(15)を形成した開口部(12a)に前記微細構造部品となる金属層(14)をめっきにより形成する工程と、前記残存するフォトレジスト層(12)を除去する工程と、前記支持用金属板(10)から前記ベースメタル層(11)を前記金属被膜(15)と前記金属層(14)とともに剥離する工程と、前記ベースメタル層(11)及び前記金属被膜(15)を除去して金属層(14)からなる微細構造部品を得る工程とを含む微細構造部品の製造方法。

IPC (6)：

C23F 1/00 ,  C23F 1/00 102 ,  C23F 1/00 104 ,  C25D 1/00 381 ,  F16H 55/17 ,  H01L 21/306

FI (6)：

C23F 1/00 Z ,  C23F 1/00 102 ,  C23F 1/00 104 ,  C25D 1/00 381 ,  F16H 55/17 Z ,  H01L 21/306 Z