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J-GLOBAL ID：200903078141223458

高分子光導波路フィルムとその製造方法

Inventor： 金子 明正 ,  疋田 真 ,  吉村 了行 ,  今村 三郎
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 中本 宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995127414
Publication number (International publication number)：1996304650
Application date： Apr. 28, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 充分な屈曲性を有する低損失で高信頼性の高分子光導波路と、その作製方法を提供する。【構成】 銅を最上層に有する基板上に、少なくともクラッド及びコアを有する高分子光導波路フィルムを作製する光導波層作製工程、その後塩酸水溶液、又は水酸化カリウム水溶液に浸漬して基板とフィルムとをはく離するはく離工程とを有する高分子光導波路フィルムの製造方法。該光導波層作製工程、又ははく離工程に引続き、該クラッド層の上部及び下部に紫外線吸収層を形成する工程を有する前記フィルムの製造方法。及び該紫外線吸収層を有する高分子光導波路フィルム。【効果】 基板はく離前の光導波路特性を充分に保っており、また吸収層を付加することにより、紫外線照射による導波路特性劣化を著しく改善する効果がある。

Claim (excerpt)：

銅を最上層に有する基板上に、少なくともクラッド及び該クラッドより屈折率の高いコアを有する高分子光導波路フィルムを作製する光導波層作製工程と、その後、塩酸水溶液に浸漬することにより、該高分子光導波路フィルムを、該基板からはく離するはく離工程を有することを特徴とする高分子光導波路フィルムの製造方法。