Pat
J-GLOBAL ID：200903078166491350

金属板上に光触媒性の高い二酸化チタン膜を作製する方法

Inventor：
住田 泰史

About 住田 泰史

, 
山本 春也

About 山本 春也


Applicant, Patent owner：
日本原子力研究所

About 日本原子力研究所


Agent (1)： 社本 一夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001108606
Publication number (International publication number)：2002302760
Application date： Apr. 06, 2001
Publication date： Oct. 18, 2002
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、金属基板上に数十nm程度の非常に薄い厚さで平滑な二酸化チタン膜を作製することを課題とする。本発明は、また、光触媒性の高い二酸化チタン膜が形成される基板材質を見出すことを課題とする。【解決手段】 レーザーアブレーション成膜法を用いることにより、金属基板上に二酸化チタン膜を作製することを解決手段とする。詳しくは、低圧酸素雰囲気下で二酸化チタンにレーザーを照射することにより金属基板上に光触媒性の高い二酸化チタン膜を作製することを解決手段とする。また、種々の金属基板上に二酸化チタン膜を作製し、光触媒性を評価することにより、高い光触媒性をもった二酸化チタン膜が形成される基板材質を見出す。
Claim (excerpt)：
低圧酸素雰囲気下で二酸化チタンにレーザーを照射することにより金属板上に二酸化チタン膜を作製する方法。
IPC (6)：
C23C 14/28 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  B23K 26/00 ,  C01G 23/07 ,  B23K103:14
FI (6)：
C23C 14/28 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  B23K 26/00 G ,  C01G 23/07 ,  B23K103:14
F-Term (24)：
4E068AH03 ,  4E068DB01 ,  4E068DB15 ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA17 ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069FA04 ,  4G069FB02 ,  4K029AA02 ,  4K029BA48 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB05 ,  4K029DB20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM