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J-GLOBAL ID：200903078218578645

医療用荷電粒子照射装置

Inventor： 秋山 浩 ,  平本 和夫 ,  松田 浩二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 秋本 正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996233084
Publication number (International publication number)：1998076018
Application date： Sep. 03, 1996
Publication date： Mar. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】 荷電粒子ビームを患部に照射するときの患部位置の位置決めを高精度に行う。【解決手段】 治療台7に載置された患者6の患部に照射する治療用荷電粒子ビーム5の照射位置を制御するビーム偏向手段2,3を有する荷電粒子ビーム照射手段1を備える医療用荷電粒子照射装置において、照射する荷電粒子ビームのエネルギーを該荷電粒子ビームが前記患者及び治療台を透過するまで高め、このエネルギーを高めた荷電粒子ビームの照射位置をビーム偏向手段2,3を制御することで走査し患者6及び治療台7を透過した荷電粒子ビームをモニタ装置8やエネルギー測定装置9等で計測し、患者6の患部位置のデータを求める。そして、この求めた患部位置に治療用の荷電粒子ビームを照射する。これにより、位置決め用のX線照射装置が不要となり、また、荷電粒子ビームを用いた画像で高精度の位置決めが可能となる。

Claim (excerpt)：

治療台と、該治療台に載置された患者の患部に照射する治療用荷電粒子ビームの照射位置を制御するビーム偏向手段を有する荷電粒子ビーム照射手段とを備える医療用荷電粒子照射装置において、照射する荷電粒子ビームのエネルギーを該荷電粒子ビームが前記患者及び治療台を透過するまで高める手段と、該手段によりエネルギーを高めた荷電粒子ビームの照射位置を前記ビーム偏向手段を制御することで走査し前記患者及び治療台を透過した荷電粒子ビームをモニタして該患者の患部位置のデータを求める手段と、該手段により求めた患部位置に治療用の荷電粒子ビームを照射する手段とを備えることを特徴とする医療用荷電粒子照射装置。

FI (3)：

A61N 5/10 E ,  A61N 5/10 J ,  A61N 5/10 T

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 放射線照射方法及び放射線照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-058523   Applicant：株式会社日立製作所
• シンクロトロン
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-347450   Applicant：石川島播磨重工業株式会社