CVD成膜装置及びCVD成膜装置用内部電極の清掃方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：今下勝博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002066818
Publication number (International publication number)：2003268550
Application date： Mar. 12, 2002
Publication date： Sep. 25, 2003
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は、内部電極と電極汚れとの強固な付着を防止して、電極汚れを短時間にしかも容易に除去することができる内部電極清掃機構を備えたCVD成膜装置を提供することである。【解決手段】本発明に係るCVD成膜装置は、プラスチック容器を収納する外部電極と該プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置される接地した内部電極並びに該内部電極が該プラスチック容器内の挿入時に内部電極と外部電極とが絶縁状態となる蓋とからなる密封可能な成膜チャンバーと、プラスチック容器の内部にプラズマ化させる原料ガスを導入する原料ガス導入手段と、外部電極に高周波を供給する高周波供給手段とを備えたプラスチック容器の内表面にCVD(化学気相成長)膜を成膜するプラズマCVD成膜装置であって、該CVD成膜装置は、内部電極の外表面を機械的に払拭する汚れ除去手段を備え、且つ内部電極は硬質金合金メッキを施した導電性管状基体で形成したことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

プラスチック容器を収納する外部電極と該プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置される接地した内部電極並びに該内部電極が該プラスチック容器内の挿入時に内部電極と外部電極とが絶縁状態となる蓋とからなる密封可能な成膜チャンバーと、前記プラスチック容器の内部にプラズマ化させる原料ガスを導入する原料ガス導入手段と、前記外部電極に高周波を供給する高周波供給手段とを備えたプラスチック容器の内表面にCVD(化学気相成長)膜を成膜するプラズマCVD成膜装置であって、該CVD成膜装置は、前記内部電極の外表面を機械的に払拭する汚れ除去手段を備え、且つ内部電極は硬質金合金メッキを施した導電性管状基体で形成したことを特徴とするCVD成膜装置。

F-Term (10)：

4K030AA09 , 4K030BA28 , 4K030CA07 , 4K030CA15 , 4K030DA06 , 4K030FA03 , 4K030JA09 , 4K030KA14 , 4K030KA15 , 4K030KA47

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

CVD成膜装置及びCVD成膜方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-152871 Applicant：三菱商事プラスチック株式会社, 株式会社ユーテック
特開平4-218664
低圧低温プラズマによりコーティングまたは表面処理されたDI缶及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-278866 Applicant：昭和電工株式会社, 昭和アルミニウム缶株式会社

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Cited by examiner (6)

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特開平4-218664
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