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J-GLOBAL ID:200903078244283050
環状フェノ-ル硫化物金属錯体、それからなる触媒及び過酸化水素の分析方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
折口 信五
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999144750
Publication number (International publication number):2000191658
Application date: May. 25, 1999
Publication date: Jul. 11, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】各種化学反応の触媒や情報・電子材料などとしての用途に使用することができ、特にペルオキシダーゼ様活性や高いリン酸ジエステルの加水分解活性を有し、しかも塩基配列認識部位と容易にハイブリットできる金属錯体を提供する。【解決手段】下記一般式で表される環状フェノール硫化物に、第8族、1A〜7A族、1B族及び3B族の金属から選ばれる少なくとも1種を接触させて環状フェノール硫化物金属錯体とし、過酸化水素による酸化反応触媒又はリン酸ジエステルの加水分解反応触媒にする。また、この加水分解反応触媒を用いて過酸化水素の分析を行う。(式中、X1は水素原子、炭化水素基、アシル基など、Y1は水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子など、Z1はSm1、SO又はSO2、m1は1〜7の整数、n1は4〜8の整数である。)
Claim (excerpt):
一般式(1)【化1】(式(1)中、Xは水素原子、炭化水素基、アシル基、カルボキシアルキル基又はカルバモイルアルキル基であり、Yは水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子、アシル基、水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、クロロスルホン酸基、アルコキシスルホニルオキシ基又はスルホン酸基である。ZはSm、SO又はSO2であり、mは1〜7の整数である。nは4〜8の整数であり、また、Mは第8族、1A〜7A族、1B族又は3B族の金属であり、p、qは組成比を表し、1以上の整数である。)で表されることを特徴とする環状フェノール硫化物金属錯体。
IPC (12):
C07D341/00
, B01J 31/22
, C07F 5/00
, C09B 55/00
, G01N 21/77
, G01N 31/00
, C07C201/12
, C07C205/22
, C07F 3/00
, C07F 3/02
, C07F 15/02
, C07F 15/06
FI (12):
C07D341/00
, B01J 31/22 Z
, C07F 5/00 D
, C09B 55/00 D
, G01N 21/77 B
, G01N 31/00 M
, C07C201/12
, C07C205/22
, C07F 3/00 F
, C07F 3/02 Z
, C07F 15/02
, C07F 15/06
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