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J-GLOBAL ID：200903078252279894

汚染物質除去方法およびその装置

Inventor： 石出 孝 ,  赤羽 崇 ,  坪田 秀峰 ,  蓼沼 克嘉 ,  菱沼 行男 ,  野口 恒行
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社 ,  株式会社化研
Agent (1)： 光石 俊郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999335561
Publication number (International publication number)：2001153996
Application date： Nov. 26, 1999
Publication date： Jun. 08, 2001
Summary：

【要約】【課題】 汚染層を容易に除去することができる汚染物質除去方法およびその装置を提供する。【解決手段】 チェンバ11の内部に基体100を載置し、排気ポンプ14を作動する一方、励起光源13を作動して励起光2を照射すると共に、原料ガス送給装置12を作動してチェンバ11の内部へ原料ガス1を送給すると、原料ガス1が励起光2により励起されて、活性化したハロゲンまたはカルボニルなどの活性体1aを生じ、当該活性体1aが汚染層101の金属元素と反応し、当該金属がハロゲン化またはカルボニル化され、揮発して排気ガス3となり、当該排気ガス3が吸引ポンプ14によって吸引され、回収除去器15に回収除去される。これにより、基体100の表面の汚染層101を分解除去することができる。

Claim (excerpt)：

金属を含んだ汚染層が表面に形成された基体から当該汚染層を除去する汚染物質除去方法であって、ハロゲン基またはカルボニル基の少なくとも一方を有する組成からなる原料ガスに励起光を照射して当該原料ガスを励起させることにより、活性化されたハロゲンまたはカルボニルを有する活性体を発生させ、当該活性体を前記汚染層の前記金属と反応させて当該金属をハロゲン化またはカルボニル化することにより、当該金属を気化させることを特徴とする汚染物質除去方法。

IPC (2)：

G21F 9/28 525 ,  G21F 9/28 551

FI (2)：

G21F 9/28 525 A ,  G21F 9/28 551 Z