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J-GLOBAL ID：200903078262798440
投影露光装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992204989
Publication number (International publication number)：1993275315
Application date： Jul. 31, 1992
Publication date： Oct. 22, 1993
Summary：
【要約】【目的】 転写精度の向上を図る。【構成】 アパーチャー部材21は、光源11〜13から発した光を成形するための透過領域Dを有すると共に透過領域D内を横切るように帯状に形成された遮光部材24とを有しており、このアパーチャー部材21により光源11〜13から発した光のうち光学像のコントラスト及び焦点深度を劣化させる成分が遮断される。
Claim (excerpt)：
光源と、前記光源から発した光を回路パターンが形成されたマスク上に照射させる集光レンズ系と、前記マスクを通過した光をウエハ表面に集光させる投影レンズ系と、前記光源と前記集光レンズ系との間に配置されたアパーチャー部材とを備え、前記アパーチャー部材は前記光源から発した光を成形するための透過領域と前記透過領域内を横切るように帯状に形成された遮光部材とを有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
