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J-GLOBAL ID：200903078277262953
投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992243037
Publication number (International publication number)：1994097038
Application date： Sep. 11, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】 高速、高精度に投影光学系の焦点位置を計測可能とする。【構成】 パターン板1の表面に、レジスト層10とほぼ同一の屈折率を有し、かつレジスト層10の膜厚のほぼ半分の厚さの透明膜2を形成するとともに、パターン板1の下面より露光光ILを基準パターン1Aに照射する。光電検出器5は、基準パターン1A、及び透明膜2を透過して投影光学系PLを介してレチクルRのパターン面に照射され、ここで反射されて投影光学系PL、及び基準パターン1Aを介して戻された光束を受光する。主制御系MCは、パターン板1と投影光学系PLの結像面とを光軸方向に相対移動させたとき、光電検出器5から出力される検出信号S1に基づいて投影光学系PLの焦点位置を検出する。
Claim (excerpt)：
マスクに形成されたパターンを、表面に感光剤が塗布された基板上に結像投影する投影光学系と、前記基板を保持して前記投影光学系の光軸と垂直な面内で2次元移動可能な基板ステージとを備えた投影露光装置において、前記基板ステージの一部に設けられ、前記感光剤とほぼ同一の屈折率を有し、かつ前記感光剤の膜厚に対応した厚さの薄膜がほぼ全面に形成された基準パターンと;前記基準パターンに照明光を照射する照明手段と;前記基準パターンから発生して前記投影光学系を通過した光束を受光する受光手段と;該受光手段から出力される検出信号に基づいて前記投影光学系の焦点位置を検出する焦点位置検出手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/207
