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J-GLOBAL ID：200903078286848260

光干渉断層装置

Inventor： 原頭 基司 ,  藤本 克彦 ,  大湯 重治 ,  櫻井 康雄
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝 ,  東芝メディカルシステムズ株式会社
Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007228783
Publication number (International publication number)：2009060938
Application date： Sep. 04, 2007
Publication date： Mar. 26, 2009
Summary：

【課題】光干渉断層装置において、光ビームを水平・垂直方向に高速に走査し、ビデオフレームレートでの3次元データの収集を可能とすること。【解決手段】KTN結晶4の直交する側面に設けたX偏向用電極5およびY偏向用電極6に電圧を印加してKTN結晶4を通過する光ビーム11aをXY方向に走査する。また、X偏向用電極5とY偏向用電極6との間にKTN結晶4の沿面放電防止用突出部22を設ける。さらに、KTN結晶の射出側を凹レンズ形状とし、入射側を凸レンズ形状とする。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

被検体に低干渉光を照射して得られる反射光を用いて該被検体の光断層画像を生成する光干渉断層装置であって、 空間電荷制御モード電気光学効果を有する光学結晶の直交する側面に設けた2組の独立した電極に電圧を印加して該光学結晶を通過する光ビームを水平・垂直方向に偏光する光ビーム偏光手段 を備えたことを特徴とする光干渉断層装置。

IPC (1)：

A61B 3/12

FI (1)：

A61B3/12 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 米国特許第5975697号明細書