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J-GLOBAL ID：200903078323876570
製品製造システム
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993326810
Publication number (International publication number)：1995180867
Application date： Dec. 24, 1993
Publication date： Jul. 18, 1995
Summary：
【要約】【目的】半導体等の生産設備において、複数台の製造装置を組合せて、清浄空気供給装置,空調装置等を含めたモジュールユニット化することにより、製造装置毎に清浄度,空調条件を変化させられると共に、省エネルギー化、及び省コスト化を図る。【構成】複数台の製造装置を組合せたものをモジュールとし、このモジュール単位毎に清浄空気供給装置及び空調装置,ユーティリティ配管等を付加して、独立制御系の製造装置モジュールユニットを形成させる。【効果】(1)生産ライン内のそれぞれの製造装置(工程)毎に清浄度及び空調条件を変化(制御)可能とする。(2)従来のクリーンルーム方式に比べて、大幅な省エネルギー化とイニシャルコストの大幅低減を図ることができる。
Claim (excerpt)：
製品の製造工程中の所定の工程を処理する処理装置とこの処理装置内の雰囲気の条件を制御する雰囲気条件制御装置およびこの処理装置に物品の受渡しを行なう搬送手段をそれぞれ有する複数台の工程処理モジュールと、この複数台の工程処理モジュールの搬送手段のそれぞれに接続されてこれらとの間で物品の受渡しを行なう受渡し手段を備え、上記複数台の工程処理モジュールは上記受渡し手段を囲む位置に配置され、上記雰囲気条件制御装置は各処理装置ごとに雰囲気の条件を制御できるよう構成されたことを特徴とする製品製造システム。
Patent cited by the Patent：
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