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J-GLOBAL ID：200903078360886217

プラズマ反応容器及びガス改質方法

Inventor： 弥延 剛 ,  藤代 秀行 ,  堂坂 健児 ,  鳥居 稔 ,  安藤 和夫 ,  小谷 耕爾
Applicant, Patent owner： 北辰工業株式会社 ,  本田技研工業株式会社
Agent (1)： 栗原 浩之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000140300
Publication number (International publication number)：2001314754
Application date： May. 12, 2000
Publication date： Nov. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】 反応ガスの反応過程に合わせた、プラズマによるガス改質反応器を提供すると共に、その結果ガス改質効率を飛躍的に向上させる。【解決手段】 相対向する第1の平板型電極3及び第2の平板型電極4と、これら両電極の間に介装される誘電体5と、前記両電極3,4間に電位差を付与する電位差付与手段6とを備えてなり、前記両電極間に高電圧を印加してその間に導入したガスを分解するプラズマ反応容器であって、前記第1の電極3及び第2の電極4のガス導入方向に略直交する方向の幅Wと、ガス導入方向に沿った長さLとの比を、改質ガスの改質反応によって設定する。

Claim (excerpt)：

相対向する第1の平板型電極及び第2の平板型電極と、これら両電極の間に介装される誘電体と、前記両電極間に電位差を付与する電位差付与手段とを備えてなり、前記両電極間に高電圧を印加してその間に導入したガスを分解するプラズマ反応容器であって、前記第1の電極及び第2の電極のガス導入方向に略直交する方向の幅Wと、ガス導入方向に沿った長さLとの比を、改質ガスの改質反応によって設定してあることを特徴とするプラズマ反応容器。

IPC (3)：

B01J 19/08 ,  C07B 61/00 ,  C07C 2/80

FI (4)：

B01J 19/08 E ,  C07B 61/00 C ,  C07B 61/00 D ,  C07C 2/80

F-Term (13)：

4G075AA03 ,  4G075BA05 ,  4G075CA15 ,  4G075CA47 ,  4G075DA18 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075FB04 ,  4G075FC15 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC26 ,  4H006BA91

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-211220
  
• 特開昭51-057691