Pat
J-GLOBAL ID:200903078363581565
X線光源装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998053834
Publication number (International publication number):1999133195
Application date: Mar. 05, 1998
Publication date: May. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】X線光学系へのデブリの付着を防止し、かつ高強度のX線を安定して発生できるようにする。【解決手段】ターゲット11にレーザー光を照射することによりX線レーザー又はレーザープラズマX線を発生させるX線光源装置において、X線光学系13の光軸Lx をターゲット11の法線LTに対して60〜90度傾斜させた。X線の強度の低下がなく、X線光学系近傍のデブリ量が少ないので、高強度のX線を安定して発生できる。
Claim (excerpt):
真空槽と、該真空槽内に配置されたターゲットと、該真空槽外部に配置され前記ターゲットにレーザー光を照射することによりレーザープラズマX線を発生させるレーザー光源と、発生したX線を集光するX線光学系とを備えてなるX線光源装置において、前記X線光学系の光軸は前記ターゲットの前記レーザー光が集光された部分からの法線に対して60〜90度傾斜していることを特徴とするX線光源装置。
IPC (4):
G21K 5/02
, G21K 5/08
, H05G 2/00
, H01J 35/00
FI (4):
G21K 5/02 X
, G21K 5/08 X
, H01J 35/00
, H05G 1/00 K
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
-
X線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-216131
Applicant:株式会社ニコン
-
X線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-127600
Applicant:株式会社ニコン
-
X線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-307720
Applicant:株式会社ニコン
-
レーザプラズマX線源用ターゲツト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-284698
Applicant:株式会社ニコン
-
特公平4-039221
-
X線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-312278
Applicant:株式会社ニコン
-
パルスX線照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-343482
Applicant:株式会社ニコン
-
軟X線による試料解析装置及びその解析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-146493
Applicant:株式会社豊田中央研究所
-
レーザプラズマX線源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-229174
Applicant:株式会社ニコン
Show all
Return to Previous Page