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J-GLOBAL ID:200903078363581565

X線光源装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998053834
Publication number (International publication number):1999133195
Application date: Mar. 05, 1998
Publication date: May. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】X線光学系へのデブリの付着を防止し、かつ高強度のX線を安定して発生できるようにする。【解決手段】ターゲット11にレーザー光を照射することによりX線レーザー又はレーザープラズマX線を発生させるX線光源装置において、X線光学系13の光軸Lx をターゲット11の法線LTに対して60〜90度傾斜させた。X線の強度の低下がなく、X線光学系近傍のデブリ量が少ないので、高強度のX線を安定して発生できる。
Claim (excerpt):
真空槽と、該真空槽内に配置されたターゲットと、該真空槽外部に配置され前記ターゲットにレーザー光を照射することによりレーザープラズマX線を発生させるレーザー光源と、発生したX線を集光するX線光学系とを備えてなるX線光源装置において、前記X線光学系の光軸は前記ターゲットの前記レーザー光が集光された部分からの法線に対して60〜90度傾斜していることを特徴とするX線光源装置。
IPC (4):
G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  H05G 2/00 ,  H01J 35/00
FI (4):
G21K 5/02 X ,  G21K 5/08 X ,  H01J 35/00 ,  H05G 1/00 K
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
  • X線発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-216131   Applicant:株式会社ニコン
  • X線発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-127600   Applicant:株式会社ニコン
  • X線発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-307720   Applicant:株式会社ニコン
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