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J-GLOBAL ID：200903078372546055
X線露光用マスクおよびそのブランク
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
市之瀬 宮夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991278339
Publication number (International publication number)：1993090136
Application date： Sep. 30, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】 高精度のアライメントを可能にしたX線露光用マスクおよびそのブランクを提供する。【構成】 基板3上に、アライメント光に対する反射防止条件を満足する屈折率の異なる同種又は異種の多層膜構造1a,1b,1cからなるX線透過膜1が形成され、その上にパターン化されたX線吸収体の薄膜2が形成されている。
Claim (excerpt)：
X線透過膜上にパターン化されたX線吸収体の薄膜を形成したX線露光用マスクにおいて、前記X線透過膜がアライメント光に対する反射防止条件を満足する屈折率の異なる同種又は異種の多層膜構造であることを特徴とするX線露光用マスク。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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