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J-GLOBAL ID:200903078375867944

投影光学系及び投影露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡部 正夫 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993336470
Publication number (International publication number):1995140384
Application date: Dec. 28, 1993
Publication date: Jun. 02, 1995
Summary:
【要約】【目的】 比較的広い露光領域を確保しながら、第1物体(レチクル)および第2物体(ウェハ)の平面度が極めて悪い場合でも、実質的に少ない像歪が得られ、レンズ系の全長のみならずレンズの径を極力小さくし得るコンパクトで、高い開口数を持つ高解像力な投影光学系の提供にある。【構成】 第1物体の像を所定の縮小倍率のもとで第2物体に投影する投影光学系において、前記投影光学系は、前記第1物体側より順に、正の屈折力を持つ第1レンズ群G1と、アフォーカル系で構成される第2レンズ群G2と、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3とを有し、さらに所定の条件を満足するように構成した。
Claim (excerpt):
第1物体の像を所定の縮小倍率のもとで第2物体に投影する投影光学系において、前記投影光学系は、前記第1物体側より順に、正の屈折力を持つ第1レンズ群G1と、アフォーカル系で構成される第2レンズ群G2と、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3とを有し、全系の焦点距離をFとし、前記投影光学系の投影倍率をB、前記第1物体と前記第2物体との間の距離をL、前記第1物体から前記第1レンズ群G1の最も第1物体側のレンズ面までの距離をd0 、近軸マージナル光線が前記第2レンズ群G2に入射する時の光軸からの入射高をh1 、近軸マージナル光線が前記第2レンズ群G2を射出するときの光軸からの射出高をh2 とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。(I) 1.8≦|F/(B・L)|≦6(II) d0 /L≦0.2(III) 4≦|h2 /h1 |≦10
IPC (4):
G02B 13/24 ,  G02B 13/14 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (2):
H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭60-184222
  • 特開昭60-120312
  • 特開昭58-150924

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