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J-GLOBAL ID：200903078378667210

干渉計

Inventor： 小林 富美男
Applicant, Patent owner： 富士写真光機株式会社
Agent (1)： 川野 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995182064
Publication number (International publication number)：1997014911
Application date： Jun. 26, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【目的】 第1光ビーム及び第2光ビームの合成により干渉光を生成する干渉計のいずれかの光ビーム光路上に流体注入部を配置し、該流体注入部内に光路長調整媒質を充填することにより、光路のひずみを生じることなく光路長の調整を行う。【構成】 第1光ビーム16及び第2光ビーム18の少なくともいずれか一方の光路上に光学的光路長調整手段50を配置し、該光学的光路長調整手段50は、光ビームを通過させる流体注入部52と、他の光路上の媒質とは異なる屈折率を有し該流体注入部内に充填可能な流体状媒質とを備えたことを特徴とする干渉計。

Claim (excerpt)：

可干渉光ビームを出射する光ビーム出射手段と、該可干渉光ビームを第1光ビームおよび第2光ビームに分離する光ビーム分離手段とを有し、該第1光ビームおよび第2光ビームを再合成して干渉光を生成する干渉計において、第1光ビームおよび第2光ビームの少なくともいずれか一方の光路上に光学的光路長調整手段を配置し、該光学的光路長調整手段が、光ビームを通過させる流体注入部と、他の光路上の媒質とは異なる屈折率を有する該流体注入部内に充填可能な流体状媒質とを備えたことを特徴とする干渉計。

IPC (4)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/00 ,  G01N 21/45 ,  G02B 26/00

FI (4)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/00 G ,  G01N 21/45 A ,  G02B 26/00