Pat

J-GLOBAL ID：200903078414725699

Fe-Si-Al合金軟磁性膜及びその製造方法

Inventor： 八重樫 誠司
Applicant, Patent owner： 株式会社ジャパンエナジー
Agent (1)： 並川 啓志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994136732
Publication number (International publication number)：1995320933
Application date： May. 27, 1994
Publication date： Dec. 08, 1995
Summary：

【要約】【構成】Fe-Si-Al合金軟磁性膜においてDO3相の割合が50%以上であることを特徴とするFe-Si-Al合金磁性膜および、成膜後、550°C以上800°C以下で磁性膜中のDO3相の割合が50%以上となるまで熱処理を行うことを特徴とするFe-Si-Al合金膜の製造方法。【効果】透磁率が高く膜面内で透磁率が等方的である磁性膜を製造することができる。

Claim (excerpt)：

Fe-Si-Al合金軟磁性膜においてDO3相の割合が50%以上であることを特徴とするFe-Si-Al合金軟磁性膜。

IPC (3)：

H01F 10/14 ,  C23C 14/14 ,  G11B 5/147