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J-GLOBAL ID:200903078432491182

ガス遮断性プラスチックス材の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡辺 秀夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992195786
Publication number (International publication number):1993345831
Application date: Jun. 15, 1992
Publication date: Dec. 27, 1993
Summary:
【要約】【目的】 薄いガス遮断性被膜を表面に形成したプラスチックス材を製造する方法を提供する。【構成】 低温プラズマ法により有機シリコン化合物モノマーをプラズマとなし、このプラズマでプラスチックス基体を処理して表面に有機シリコン化合物重合体の被膜を形成し、ついでこの基体の有機シリコン化合物重合体の被膜上にシリコン酸化物膜を被覆することを特徴とするガス遮断性プラスチックス材の製造方法であって、有機シリコン化合物モノマーはビニルアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン等であり、低温プラズマ法は高周波プラズマ法、交流プラズマ法、マイクロ波プラズマ法等である。
Claim (excerpt):
低温プラズマ法により有機シリコン化合物モノマーをプラズマとなし、このプラズマでプラスチックス基体を処理して表面に有機シリコン化合物重合体の被膜を形成し、ついでこの基体の有機シリコン化合物重合体の被膜上にシリコン酸化物膜を被覆することを特徴とするガス遮断性プラスチックス材の製造方法。
IPC (4):
C08J 7/18 ,  C08J 7/04 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/00 101
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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