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J-GLOBAL ID：200903078473443869
プラズマ処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992237251
Publication number (International publication number)：1994084837
Application date： Sep. 04, 1992
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、デバイスにダメージを与えないで、被処理基板をプラズマ処理することができるように改良されたプラズマ処理装置を得ることをもっとも主要な特徴とする。【構成】 被処理基板5を収容し、プラズマ処理を行なうための反応室2の上に、プラズマを発生させるためのプラズマ発生室1が設けられる。反応室2とプラズマ発生室1とを仕切るように、これらの境界に第1のグリッド板301と第2のグリッド板302が設けられている。第1のグリッド板301と第2のグリッド板302は、互いに所定の間隔を隔てて平行に配置される。第1のグリッド板301と第2のグリッド板302には、それぞれ複数個の孔が設けられている。第1のグリッド板301に設けられた孔と、第2のグリッド板302に設けられた孔は、上下方向に互いに重ならないように配置されている。
Claim (excerpt)：
被処理基板を収容し、プラズマ処理を行なうための反応室と、前記反応室の上に設けられ、プラズマを発生させるためのプラズマ発生室と、上記反応室と上記プラズマ発生室とを仕切るように、これらの境界に設けられ、かつ互いに所定の間隔を隔てて平行に配置され、前記プラズマ発生室内で発生した前記プラズマ中のイオン、電子等の荷電粒子をトラップし、中性粒子のみを前記反応室に送込むための第1のグリッド板と第2のグリッド板と、を備え、前記第1のグリッド板と前記第2のグリッド板には、それぞれ複数個の孔が設けられており、前記第1のグリッド板に設けられた孔と、前記第2のグリッド板に設けられた孔は、上下方向に互いに重ならないように配置されている、プラズマ処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/302
, C23F 4/00
, H05H 1/00
, H01L 21/31
