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J-GLOBAL ID：200903078489787592

経皮吸収促進剤

Inventor：
横溝 優一

About 横溝 優一


Applicant, Patent owner：
ポーラ化成工業株式会社

About ポーラ化成工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996331604
Publication number (International publication number)：1998158194
Application date： Nov. 27, 1996
Publication date： Jun. 16, 1998
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 本発明は皮膚に対して刺激が低く、薬物の経皮吸収を促進する物質を提供することを課題とする。【課題の解決手段】 一般式(I)に示す化合物を経皮吸収促進剤として使用する。これらの化合物は皮膚に対して刺激が低く、薬物の経皮吸収を促進する作用に優れる。【化1】一般式(I)(但し、式中R1はテルペン残基を表し、R2はアシル基、分岐、直鎖又は環状の構造を有するアルキル基、置換基を有していても良いフェニル基、置換基を有していても良いフェニルアルキル基、ナフチル基、糖残基、一般式(II)又は一般式(III)に表される複素環残基を表す。)【化2】一般式(II)(但し、式中Y1、Y2、Y3、Y4はそれぞれ独立に水素を有していても良い炭素原子又は窒素原子を表し、nは1〜4の整数表す。)【化3】一般式(III)(但し、式中Y1、Y2、Y3はそれぞれ独立に水素を有していても良い炭素原子又は窒素原子を表す。)
Claim (excerpt)：
一般式(I)に示す化合物からなる経皮吸収促進剤。【化1】一般式(I)(但し、式中R1はテルペン残基を表し、R2はアシル基、分岐、直鎖又は環状の構造を有するアルキル基、置換基を有していても良いフェニル基、置換基を有していても良いフェニルアルキル基、ナフチル基、糖残基、一般式(II)又は一般式(III)に表される複素環残基を表す。)【化2】一般式(II)(但し、式中Y1、Y2、Y3、Y4はそれぞれ独立に水素を有していても良い炭素原子又は窒素原子を表し、nは1〜4の整数表す。)【化3】一般式(III)(但し、式中Y1、Y2、Y3はそれぞれ独立に水素を有していても良い炭素原子又は窒素原子を表す。)
IPC (5)：
A61K 47/08 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  C07D295/22 ,  C07H 15/256
FI (7)：
A61K 47/08 E ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 D ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/48 ,  C07D295/22 A ,  C07H 15/256
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 特開平2-180836
  • 経皮・経粘膜吸収製剤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-167091   Applicant：積水化学工業株式会社
  • 特開昭63-307815
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