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J-GLOBAL ID：200903078519157599

化学表面改質による高気孔質キセロゲルの製造

Inventor： デシュパンデ,ラヴィンドラ ,  スミス,ダグラス エム. ,  ブリンカー,シー.ジェフリイ
Applicant, Patent owner： ユニヴァーシティ オブ ニュー メキシコ
Agent (1)： 飯田 伸行
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1994524669
Publication number (International publication number)：1996504674
Application date： Apr. 28, 1994
Publication date： May. 21, 1996
Summary：

【要約】極めて多孔質のキセロゲルであって、真空ないし超臨界圧未満の圧力で乾燥させて作られ、超臨界圧で乾燥して作られたエーロゲルと同等の特性を有する。これはウエットゲル(例えば、アルコキシドからのシリカゲル)の内部孔表面を有機表面改質剤(ベンゼンに溶かしたトリメチルクロローシラン)と反応させ、乾燥時において孔の流体メニスカスの接触角を変える。ゲルの収縮(通常、高オ一トクレーブ圧の使用により気孔流体が臨界点以上の圧力、温度となるようにして防止する)は真空ないし超臨界圧未満でも回避される。図4は表面改質され常圧で処理された本発明のゲルの乾燥時のサンプルの重量、長さの変化を示し、初期の収縮が乾燥の最終段階で膨脹することを示している。この極めて小さい密度で微細な気孔のゲルは絶縁性、その他の有用な特性を有する。

Claim (excerpt)：

気孔率が0.6以上の乾燥キセロゲルの製造方法であって、 (a)ゲルをウエット状態で、かつ孔隙流体接触角がOを有し、かつ表面種である原子を可なりの数、有するものを用意し; (b)該ウエットゲルを表面改質剤と反応させ上記表面種の可なりの数を、異なる種であって孔隙流体接触角Oを実質的に増大させる種と置換させ; (c)該ウエットゲルを真空ないし臨界圧未満の範囲から選ばれる少なくとも1つの圧力で乾燥させることを特徴とする方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 無機微細多孔体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-209562   Applicant：松下電工株式会社