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J-GLOBAL ID：200903078565324513

排ガス処理装置

Inventor： 吉田利彦
Applicant, Patent owner： 東燃株式会社
Agent (1)： 久保田 耕平 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994243985
Publication number (International publication number)：1996105317
Application date： Oct. 07, 1994
Publication date： Apr. 23, 1996
Summary：

【要約】【目的】大気圧下での低温プラズマにより排ガス中のNOX およびパーティキュレートを安定かつ効果的に低減させる。【構成】高電気伝導性材料からなる基板層1と、セラミック材料からなる電子絶縁層2と、耐熱性の高電気伝導性材料からなる電極3とを積層して構成され、前記基板層および電極間に交流電源5を接続し、大気圧下での低温プラズマにより排ガス中の残存酸素を励起させ、励起種とパーティキュレートの反応によるにCO2化と励起種によるNOX の分解を行う。

Claim (excerpt)：

高電気伝導性材料からなる基板層と、セラミック材料からなる電子絶縁層と、耐熱性の高電気伝導性材料からなる電極とを積層して構成され、前記基板層および電極間に交流電源を接続し、大気圧下での低温プラズマにより排ガス中の残存酸素を励起させ、励起種とパーティキュレートの反応によるにCO2化と励起種によるNOX の分解を行うことを特徴とする排ガス処理装置。

IPC (5)：

F01N 3/08 ZAB ,  F01N 3/08 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  F01N 3/02 301