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J-GLOBAL ID：200903078574687947
高活性化イオン濃度を有するレーザ材料およびマイクロレーザキャビティならびにそれらの製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
吉田 豊
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997187794
Publication number (International publication number)：1998065258
Application date： Jun. 27, 1997
Publication date： Mar. 06, 1998
Summary：
【要約】【課題】 高濃度の活性化イオン、より具体的には少なくとも2%以上の濃度でドープした活性レーザ材料、およびそれからマイクロレーザ(マイクロレーザキャビティ)およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板上で液相エピタキシャル成長法により活性媒質を生成し、次いで基板を除去してマイクロレーザを製造する。マイクロレーザあるいはマイクロレーザキャビティは、反射鏡を備える。キャビティは、ポンピングビームを介して励起される。
Claim (excerpt)：
結晶質の材料 YAGまたはYLiF4 を備え、ネオジムイオンNd3+で2%と15%の間の濃度でドープされると共に、液相エピタキシャル成長法で生成されることを特徴とする活性レーザ材料。
Patent cited by the Patent：
Article cited by the Patent：
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