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J-GLOBAL ID:200903078577280783

液体の処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1997531289
Publication number (International publication number):2000506065
Application date: Mar. 07, 1997
Publication date: May. 23, 2000
Summary:
【要約】液体処理反応装置(2)が開示されている。反応装置(2)は、吸収用基材(6)が充填されたチャンバ(4)を有している。入口(10)が、予め定められた量の処理されるべき液体を一定の間隔でチャンバ内へ供給するためにチャンバの上方部に配置されている。チャンバは、前記チャンバの下方部に設けられ、処理された液体をそこから除去するための出口(12)をさらに有している。処理されている液体を通過させるが、しかしチャンバ(4)内で少なくとも1つの毛細管現象の中断を決して起こさず、吸収用基材の連続した層を持った円柱に充填された液体の毛細管現象上昇に従って計算された予め定めた厚さを有し、吸収用基材(6)を少なくとも2つの垂直に整列された層に分割するための、少なくとも1つの分離部材(8)がチャンバ中に水平に配置されている。前記反応装置(2)は、製造費用が安く、処理時間が、分離部材(8)と同様に多孔質材料(6)の毛細管現象の作用を利用することによって簡単に制御できる。反応装置(2)の処理量はそれ故最大となる。
Claim (excerpt):
-上方部と下方部を有するチャンバと;-処理されるべき液体の一定量を規則正しく前記チャンバ内に導くためにチャンバの上方部に設けられた入口と;-処理された液体をチャンバから除去するためにチャンバの下方部に設けられた出口と;および-上方部と下方部との間でチャンバ内に設けられた吸収用基材であって、前記基材が、チャンバ内に導かれた液体を毛細管現象によって吸収可能な多孔質のパッキングから成り、さらに:-少なくとも2つの重ね合わされた一定の高さの層に分割するために、チャンバ内で水平に延在した少なくとも1つの分離部材を有し、前記高さは、同様の吸収用基材の連続した層が満たされている円柱に供給された場合、処理されるべき液体が、毛細管現象の作用によって到達する高さの関数として計算され、前記少なくとも1つの分離部材が、処理されるべき液体に対して浸透可能なように、しかし、チャンバ内において毛細管現象の少なくともある中断となるように選択されていることを特徴とする液体を処理するための反応装置。
IPC (5):
B01J 8/04 301 ,  B01J 20/28 ,  C02F 3/04 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10
FI (5):
B01J 8/04 301 ,  B01J 20/28 A ,  C02F 3/04 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10 Z

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