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J-GLOBAL ID：200903078621028221

磁気光学薄膜の製造方法

Inventor： 東山 恵三
Applicant, Patent owner： 三菱電線工業株式会社
Agent (1)： 高島 一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991328071
Publication number (International publication number)：1993140791
Application date： Nov. 15, 1991
Publication date： Jun. 08, 1993
Summary：

【要約】【構成】 陽極酸化処理により形成させた多孔質皮膜層を表面に有するアルミニウム基板を陽極として用い、Pt,MnおよびSbのイオンを含む電解質溶液中において当該陽極と対抗電極との間に電圧印加を行ってPtMnSb合金を多孔質陽極酸化皮膜層の各孔中に析出させた後、研磨処理および熱処理を行うことを特徴とする磁気光学薄膜の製造方法。【効果】 本発明の製造方法によって、従来のものよりさらにθk とS/N比が大きく、高密度記録可能な優れた磁気光学薄膜を作製することができる。

Claim (excerpt)：

陽極酸化処理により形成させた多孔質皮膜層を表面に有するアルミニウム基板を陽極として用い、Pt,MnおよびSbのイオンを含む電解質溶液中において当該陽極と対抗電極との間に電圧印加を行ってPtMnSb合金を多孔質陽極酸化皮膜層の各孔中に析出させた後、研磨処理および熱処理を行うことを特徴とする磁気光学薄膜の製造方法。

IPC (5)：

C25D 5/10 ,  C25B 11/03 ,  C25B 11/04 ,  C25D 3/56 ,  C25D 11/20 302