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J-GLOBAL ID：200903078632379646

ゲル状組成物

Inventor： 石窪 章 ,  大森 隆司 ,  鈴木 由紀
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007011982
Publication number (International publication number)：2008019239
Application date： Jan. 22, 2007
Publication date： Jan. 31, 2008
Summary：

【課題】本発明はゲル化能、及び使用感触に優れたゲル組成物を提供する。【解決手段】(a)下記式(I)で示されるブロック型アルキレンオキシド誘導体0.1〜60質量%と、(b)油分と、(c)水0.1〜10%とを含み、油分を連続相とし、系の粘度が500mPas・s(25°C)以上であることを特徴とするゲル状組成物。(化1) R1O-[(AO)l(EO)m(AO)n]-R2 (I)(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、l、m及びnはそれぞれ前記オキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦l+n≦70である。炭素数3〜4のオキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合は20〜80質量%である。R1及びR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子である。)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(a)下記式(I)で示されるブロック型アルキレンオキシド誘導体0.1〜60質量%と、 (b)油分と、 (c)水0.1〜10質量%とを含み、 油分を連続相とし、 系の粘度が500mPa・s(25°C)以上であることを特徴とするゲル状組成物。 (化1) R1O-[(AO)l(EO)m(AO)n]-R2 (I) (式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、l、m及びnはそれぞれ前記オキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦l+n≦70である。炭素数3〜4のオキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合は20〜80質量%である。R1及びR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子である。)

IPC (6)：

A61K 8/39 ,  A61K 8/90 ,  A61K 8/92 ,  A61Q 5/00 ,  A61Q 19/00 ,  A61Q 19/10

FI (6)：

A61K8/39 ,  A61K8/90 ,  A61K8/92 ,  A61Q5/00 ,  A61Q19/00 ,  A61Q19/10

F-Term (21)：

4C083AA122 ,  4C083AB051 ,  4C083AB242 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC182 ,  4C083AC262 ,  4C083AC342 ,  4C083AC352 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AD051 ,  4C083AD052 ,  4C083AD152 ,  4C083AD212 ,  4C083AD242 ,  4C083AD272 ,  4C083CC12 ,  4C083CC23 ,  4C083DD41

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平1-163111号公報
  
• 特公昭53-27776号公報
  
• ゲル状化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-268168   Applicant：株式会社資生堂

Cited by examiner (2)

• ゲル状洗浄組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-207368   Applicant：株式会社資生堂
• 化粧料除去剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-191908   Applicant：パイロットインキ株式会社