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J-GLOBAL ID：200903078633067010

電子線用転写マスク

Inventor： 河田 真太郎
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999099542
Publication number (International publication number)：2000292911
Application date： Apr. 07, 1999
Publication date： Oct. 20, 2000
Summary：

【要約】【目的】パターンのつなぎ精度を確保しつつ、マスクサイズを必要最低限に抑えることができるマスクを提供する。【解決手段】感応基板に転写すべきパターンを形成したメンブレンと、該メンブレンを複数の長方形の領域に分割する支柱と、を備えた電子線用転写マスクにおいて、前記長方形の領域内には、長手方向に複数のパターン領域である小領域が配置され、該各小領域間には非パターン領域が配置され、該非パターン領域の幅が1μm〜50μmであることを特徴とする電子線用転写マスク。

Claim (excerpt)：

感応基板に転写すべきパターンを形成したメンブレンと、該メンブレンを複数の長方形の領域に分割する支柱と、を備えた電子線用転写マスクにおいて、前記長方形の領域内には、長手方向に複数のパターン領域である小領域が配置され、該各小領域間には非パターン領域が配置され、該非パターン領域の幅が1μm〜50μmであることを特徴とする電子線用転写マスク。

IPC (2)：

G03F 1/16 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/16 B ,  H01L 21/30 541 S

F-Term (7)：

2H095BA02 ,  2H095BA08 ,  2H095BB36 ,  5F056AA22 ,  5F056AA27 ,  5F056AA29 ,  5F056FA05