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J-GLOBAL ID：200903078662863461

有機感光体の有機被膜除去方法および有機感光体用再生基体

Inventor： 中村 光秀 ,  加藤 房志 ,  稲蔭 覚
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 渡部 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992018127
Publication number (International publication number)：1993181289
Application date： Jan. 06, 1992
Publication date： Jul. 23, 1993
Summary：

【要約】【目的】 有機感光体の有機被膜を基体から効率よく除去する方法を提供し、資源の有効利用を目的とする。【構成】 有機感光体の有機被膜除去方法は、少なくともカルボン酸、フェノール系化合物およびケトン系化合物を含む処理液を用いて、基体上に形成された有機被膜を処理することを特徴とする。この方法により、再使用可能な有機感光体再生用基体が得られる。

Claim (excerpt)：

少なくともカルボン酸、フェノール系化合物およびケトン系化合物を含む処理液によって、基体上に形成された有機感光体の有機被膜を除去することによって再生された有機感光体再生用基体。

IPC (2)：

G03G 5/00 101 ,  G03G 5/10