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J-GLOBAL ID：200903078664401406
デバイス製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
三俣 弘文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994296036
Publication number (International publication number)：1995199484
Application date： Nov. 07, 1994
Publication date： Aug. 04, 1995
Summary：
【要約】【目的】 本発明はデバイス製造のためのリソグラフィー方法を開示する。マレイミド含有ポリマーをレジストとして使用した場合の、リソグラフィー工程中のレジストの縮みの問題を改善し、その結果レジスト中のイメージ、ひいてはデバイスパターンに生じる歪みを低減させた。【構成】 照射に感応する材料の領域を基板上に形成する。この照射感応材料にはマレイミドモノマーと少なくとも二つのその他のモノマーの共重合製品であるポリマー成分が含まれる。マレイミドモノマーが共重合しているモノマーの一つには不安定な酸基がぶら下がっており、この不安定な酸基がぶらさがっているモノマーはコポリマーを形成するモノマーの50パーセント未満を占める。この不安定な酸基はマレイミドモノマーにはぶら下がっていない。
Claim (excerpt)：
基板上に照射に感応する材料の領域を形成するステップと、前記の照射に感応する材料は少なくとも3つの異なるモノマーの重合体であり、第一のモノマーは不安定な酸置換基を持ち、第二のモノマーは不安定な酸置換基を持たないマレイミドモノマーであり、第三のモノマーはマレイミドモノマーではなく、また不安定な酸置換基も持たないものであり、前記の不安定な酸置換基を持つモノマーは前記の重合生成物の50モルパーセント未満を占めており、前記のレジスト材料中にエネルギーに露光した、独立した離散領域と、エネルギーに露光していない、隣接し独立した離散領域とを作りだすために、前記の照射に感応する材料の少なくとも一部をエネルギーに露光するステップと、前記の離散領域のそれぞれがあいまって、パターン像を規定しており、前記の照射に感応する材料中のイメージからパターンを現像するステップと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
IPC (3)：
G03F 7/38 511
, G03F 7/26
, H01L 21/027
H01L 21/30 565
, H01L 21/30 568
Cited by examiner (6)
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