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J-GLOBAL ID：200903078666356297

排水処理設備における脱臭方法

Inventor： 北村 総謁
Applicant, Patent owner： 株式会社イナックス
Agent (1)： 吉田 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997058256
Publication number (International publication number)：1998235139
Application date： Feb. 25, 1997
Publication date： Sep. 08, 1998
Summary：

【要約】【課題】排水の浄化処理を行う処理槽の内部にオゾンを供給し、そのオゾンを排水の悪臭成分と反応させて脱臭を行うのに際し、オゾンと悪臭成分とを効率良く反応させて効果的に脱臭を行う。【解決手段】流量調整槽14,曝気槽18,沈殿槽20を有する浄化槽12の内部に排水を流入させて各槽14,18,20内を順次に移動させ、浄化処理した上で排出する排水浄化槽設備10において、浄化槽12の上部空間を反応空間としてそこにオゾンを供給し、オゾンと排水から発生した悪臭成分とを反応させて脱臭するとともに、オゾンを、浄化槽12において悪臭を最も多く発生させる流量調整槽14の上部空間に集中的に供給する。また浄化槽12における排気経路を、排気が悪臭の多い部位から少ない部位へと排気が順次に流れるようになし、供給したオゾンを、悪臭を多く発生させる部位から少ない部位へと移動させつつ浄化槽12における悪臭成分と反応させる。

Claim (excerpt)：

処理槽内に排水を流入させ、該流入した排水を該処理槽における複数の槽を順次に移動させ、浄化処理した上で排出する排水処理設備において前記処理槽の上部空間を反応空間として該反応空間内にオゾンを供給し、該オゾンと該排水から発生する悪臭成分とを反応させて脱臭するとともに、該オゾンを、該処理槽において悪臭を多く発生させる部位に集中的に多く供給することを特徴とする排水処理設備における脱臭方法。

IPC (4)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/34 ZAB ,  C02F 3/00

FI (3)：

B01D 53/34 116 F ,  C02F 3/00 E ,  B01D 53/34 ZAB