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J-GLOBAL ID：200903078669699098

フォトニック結晶の製造方法

Inventor： 横山 光 ,  北岡 賢治 ,  寺本 みゆき
Applicant, Patent owner： ミノルタ株式会社
Agent (1)： 佐野 静夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000090749
Publication number (International publication number)：2001272566
Application date： Mar. 27, 2000
Publication date： Oct. 05, 2001
Summary：

【要約】【課題】 部位によって光学的特性の異なるフォトニック結晶を簡単に得ることのできるフォトニック結晶の製造方法を提供する。【解決手段】 異なるエッチング特性及び屈折率を有する複数の媒質6、7を基3板上に積層して基体21が形成され、基体21の表面に周期的に配列される複数の孔部6a、6bをエッチングや陽極酸化等により形成する。その後、エッチングにより孔部6a、7aの径を拡大する。これにより、断面G-Gでは媒質6と媒質7とが厚み方向に周期的に配列され、断面H-Hでは媒質6と空気とが厚み方向に周期的に配列された擬似的な三次元のフォトニック結晶が得られる。

Claim (excerpt)：

厚み方向に結晶軸方向及びエッチング特性の少なくとも一方が異なる物質から成る基体を形成する第1工程と、前記基体に周期的に配列した複数の孔部を形成する第2工程と、を備えたことを特徴とするフォトニック結晶の製造方法。

IPC (5)：

G02B 6/13 ,  G02B 1/02 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/30 ,  G02B 6/12

FI (6)：

G02B 1/02 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/30 ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N

F-Term (23)：

2H047KA03 ,  2H047LA18 ,  2H047PA01 ,  2H047PA24 ,  2H047QA01 ,  2H049AA01 ,  2H049AA02 ,  2H049AA31 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA44 ,  2H049AA48 ,  2H049AA57 ,  2H049AA59 ,  2H049AA65 ,  2H049BA01 ,  2H049BA42 ,  2H049BB01 ,  2H049BB03 ,  2H049BB06 ,  2H049BB62 ,  2H049BC08 ,  2H049BC25