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J-GLOBAL ID：200903078709662613

下水処理プロセス制御装置

Inventor： 加納 誠
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994189335
Publication number (International publication number)：1996052459
Application date： Aug. 11, 1994
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 微生物が最も活性化される環境に下水を制御し、下水を良好に浄化することができる下水処理プロセス制御装置の提供。【構成】 特徴量予測部3による定められた時間後の活性汚泥の状態を表す特徴量の予測と、操作量修正部4による下水処理プロセス7に与えられる操作量の修正量の計算と、この修正量による操作量の修正とを繰り返し、その結果の操作量un を下水処理プロセス7に入力する。

Claim (excerpt)：

下水処理プロセスの曝気槽から流れ出る下水を撮影する撮影手段と、この撮影手段により撮影された画像の特徴量を抽出する画像処理手段と、下水処理プロセスに与えられる操作量と前記画像処理手段により抽出された特徴量に基づき、所定時間後の特徴量を予測する特徴量予測手段と、この特徴量予測手段により予測された特徴量と目標とする特徴量とが一致するよう、前記操作量の修正量を求める操作量修正手段と、この操作量修正手段によって求められた操作量の修正量を前記操作量に加算する加算手段とを具備することを特徴とする下水処理プロセス制御装置。

IPC (5)：

C02F 1/00 ZAB ,  C02F 1/00 ,  C02F 3/12 ZAB ,  C02F 3/12 ,  G05B 13/02