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J-GLOBAL ID：200903078711171210

マスク、光反射膜付基板、光反射膜の形成方法、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器

Inventor：
大竹 俊裕

About 大竹 俊裕

, 
松尾 睦

About 松尾 睦

, 
露木 正

About 露木 正


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (1)： 上柳 雅誉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002108526
Publication number (International publication number)：2003075987
Application date： Apr. 10, 2002
Publication date： Mar. 12, 2003
Summary：
【要約】【課題】 干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板を製造するためのマスク、それを用いてなる光反射膜付基板、光反射膜の製造方法、及び干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板を備えた電気光学装置、並びに干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板を備えた電子機器を提供する。【解決手段】 光透過部又は光不透過部を、ドット領域の数より少ない数のドット分を一単位として形成し、かつその単位内において不規則に配列するとともに、当該一単位を複数個含むマスクを用いて、基材に形成された複数の凸部の高さ又は凹部の深さを実質的に等しくするとともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、複数の凸部又は凹部を平面方向にランダムに配列した光反射膜付基板を作成する。
Claim (excerpt)：
複数のドット領域を有する基板にパターンを形成するためのマスクであって、入射光を透過可能な光透過部と、実質的に光を透過させない光不透過部と、を具備し、前記光透過部又は光不透過部により形成されるパターンは、前記ドット領域の数よりも少ない数のドット分を一単位として形成されているとともに、その一単位内において不規則に配列されてなり、かつ、前記一単位を複数個含むこと、を特徴とするマスク。
IPC (5)：
G03F 1/08 ,  G02B 5/02 ,  G02B 5/08 ,  G02F 1/1335 520 ,  G02F 1/167
FI (5)：
G03F 1/08 A ,  G02B 5/02 C ,  G02B 5/08 A ,  G02F 1/1335 520 ,  G02F 1/167
F-Term (24)：
2H042BA04 ,  2H042BA12 ,  2H042BA20 ,  2H042DA02 ,  2H042DA04 ,  2H042DA11 ,  2H042DA14 ,  2H091FA16Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB08 ,  2H091FC02 ,  2H091FC10 ,  2H091FC12 ,  2H091FC23 ,  2H091FC26 ,  2H091FC29 ,  2H091FD23 ,  2H091GA01 ,  2H091GA03 ,  2H091GA13 ,  2H091KA10 ,  2H091LA21 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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