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J-GLOBAL ID：200903078719074744
暗渠排水管埋設方法及び装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
八木田 茂 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996200494
Publication number (International publication number)：1998037168
Application date： Jul. 30, 1996
Publication date： Feb. 10, 1998
Summary：
【要約】【課題】 埋設後に、浸透層の取り替えの必要のない暗渠排水管埋設方法及び装置を提供すること。【解決手段】 本発明の暗渠排水管埋設方法は、地面を溝掘機(2)で掘削して溝を形成し、前記溝の底部に管供給手段(10)によって暗渠排水管(11)を敷設し、前記溝における暗渠排水管(11)上に非腐食性材料から成る浸透層(S)を形成し、前記溝における浸透層(S)上に土(8)を埋め戻すこを特徴とする。
Claim (excerpt)：
地面を掘削して溝を形成し、前記溝の底部に暗渠排水管を敷設し、前記溝における暗渠排水管上に非腐食性材料から成る浸透層を形成し、前記溝における浸透層上に土を埋め戻すこを特徴とする暗渠排水管埋設方法。
Patent cited by the Patent：
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