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J-GLOBAL ID：200903078752008315
減圧気相成長装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992154894
Publication number (International publication number)：1993347257
Application date： Jun. 15, 1992
Publication date： Dec. 27, 1993
Summary：
【要約】【目的】減圧気相成長装置の成長ゾーンが長い場合でも、温度勾配をつけないで気相成長膜の膜厚を均一にする。【構成】石英の外管11と内管7を備えた減圧気相成長装置において、石英管内にガス導入ライン9,5及びガス排気ライン12.8を各2系統を持ち気相成長時に交互にガス排気ラインとガス導入ラインを変更することを可能にする。
Claim (excerpt)：
石英の外管と内管との間の石英管内にガス導入ラインとガス排気ラインを各2系統有し、気相成長時にガス排気ラインとガス導入ラインを交互にライン変更することを特徴とする減圧気相成長装置。
IPC (3)：
H01L 21/205
, C30B 25/02
, C30B 25/14
