感放射線性組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩見谷周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001280035
Publication number (International publication number)：2002162746
Application date： Sep. 14, 2001
Publication date： Jun. 07, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】レジストとして、狭スペースの加工性能、多様なパターンデザインにおけるCD均一性および保存安定性に優れ、粗密依存性が小さく、微細パターンを高精度で安定に形成することができる化学増幅型ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を提供する。【解決手段】(A1)ヒドロキシ(メチル)スチレン単位および/またはアルコキシ(メチル)スチレン単位、並びに下記式(3)で表される繰返し単位を含む共重合体、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物。並びに(A2)ヒドロキシ(メチル)スチレン単位および式(3)の繰返し単位を含む共重合体、(B)感放射線性酸発生剤、並びに(C)酸の存在下で成分(A2)を架橋しうる化合物を含有するネガ型感放射線性組成物。

Claim (excerpt)：

(A1)下記式(1)で表される繰返し単位および/または下記式(2)で表される繰返し単位並びに下記式(3)で表される繰返し単位を含む共重合体、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(式中、R1は水素原子またはメチル基を示す。)【化2】(式中、R2は水素原子またはメチル基を示し、R3は炭素原子数4〜10の3級アルキル基を示す。)【化3】(式中、R4は水素原子またはメチル基を示し、R5およびR6は独立に水素原子、置換もしくは非置換の炭素原子数1〜12のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素原子数6〜15の芳香族基、または炭素原子数1〜12のアルコキシル基を示すか、あるいはR5とR6が相互に結合してそれぞれが結合している窒素原子と共に3〜15員環構造を有する基を形成している。ただし、R5およびR6は同時に水素原子ではない。)

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , C08F212/14 , C08F220/56 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , C08F212/14 , C08F220/56 , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (49)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB15 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J100AB02Q , 4J100AB02S , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AL03S , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL62R , 4J100AM17R , 4J100AM19Q , 4J100AM19R , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA15P , 4J100BC43Q , 4J100BC43R , 4J100BC73Q , 4J100BC73R , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100CA31 , 4J100FA03 , 4J100HA03 , 4J100HC09 , 4J100HC45 , 4J100HE08 , 4J100HE13 , 4J100JA37

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-198163 Applicant：三菱レイヨン株式会社

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