Pat
J-GLOBAL ID：200903078810284654
電子干渉計測装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997006117
Publication number (International publication number)：1998199464
Application date： Jan. 17, 1997
Publication date： Jul. 31, 1998
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 従来法では計測が困難であった試料や条件の下でも高い精度で計測ができる電子干渉計測装置を提供する。【解決手段】 電子顕微鏡または類似装置の被検試料25と照射レンズ21の間に電子線バイプリズム22を配し、2本に分割された電子線11および12で被検試料25の同一部分を照射する。この試料像を観察面29上でいずれかの方向にデフォーカスするか被検試料と観察面の間に配された第2の電子線バイプリズム24を用いて横ずれを生じせしめ、シアリング干渉図形を形成する。第1もしくは第2の電子線バイプリズムを干渉縞がその間隔の1/Mずつシフトするようにステップ的に微動させるとともに、そのステップごとに干渉図形を計算装置31に取り込み、計M枚の干渉図形から試料被検部を透過した電子線の位相分布を計算する。
Claim (excerpt)：
電子線源と、1つ以上の照射レンズと、被検試料と、電子線源と被検試料の間に設置された電子ビームスプリッタと、1つ以上の結像レンズとからなり、上記電子ビームスプリッタによって分割された2本の電子線が被検試料の同一部を異なる方向から照射して一対の被検試料像を形成し、観察面において該被検試料像対をわずかな横ずらしをもって重ねることを特徴とする電子干渉計測装置。
IPC (2)：
FI (2)：
Return to Previous Page
