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J-GLOBAL ID：200903078812089700

ケイ素系ハイブリツド材料

Inventor： 岩原 孝尚 ,  安藤 紀芳 ,  米沢 和弥
Applicant, Patent owner： 鐘淵化学工業株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991290458
Publication number (International publication number)：1993098011
Application date： Oct. 11, 1991
Publication date： Apr. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、耐熱性、耐燃焼性に優れ、軽量高靱性で高い機械的強度と良好な成形加工性を有するケイ素系ハイブリッド材料及びその製造方法を提供するものである。【構成】 本発明は、アルコキシシラン類((A)成分)の加水分解・縮合反応とケイ素含有環状化合物((B)成分)の開環重合反応とを行わせて得られることを特徴とするケイ素系ハイブリッド材料である。

Claim (excerpt)：

アルコキシシラン類((A)成分)の加水分解・縮合反応とケイ素含有環状化合物((B)成分)の開環重合反応とを行わせて得られることを特徴とするケイ素系ハイブリッド材料。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭54-131661