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J-GLOBAL ID:200903078834091350

下水の処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 名嶋 明郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992326799
Publication number (International publication number):1994170388
Application date: Dec. 07, 1992
Publication date: Jun. 21, 1994
Summary:
【要約】【目的】 処理時間を大幅に短縮して装置規模を小さくし、かつ窒素化合物の除去率を大幅に向上できる下水処理方法を提供すること。【構成】 最初沈殿池を経ない流入下水を汚泥曝気槽2からの返送汚泥とともに接触安定槽1に供給し、汚泥に下水中の有機物、浮遊物質等を吸着させ、また硝酸性窒素を脱窒する。混合液を沈殿槽3で上澄水と沈降分離汚泥とに分離し、上澄水は処理水として排出し、沈降分離汚泥の一部は余剰汚泥として排出する。沈降分離汚泥のうち2番目以降の汚泥ピット4から引き抜いた沈降分離汚泥を汚泥曝気槽2で曝気し、有機物の分解とアンモニア性窒素の硝化を行わせた後、返送汚泥として接触安定槽1に供給する。
Claim (excerpt):
流入下水と汚泥曝気槽からの返送汚泥とを接触安定槽に供給し、汚泥に下水中の有機物、浮遊物質等の汚濁成分を吸着させるとともに硝酸性窒素を脱窒した後、その混合液を沈殿槽で上澄水と沈降分離汚泥とに分離して上澄水は処理水として排出し、沈降分離汚泥の一部は余剰汚泥として排出するとともに、沈降分離汚泥の残部は汚泥曝気槽で曝気して有機物を分解するとともに、アンモニア性窒素を硝化した後、返送汚泥として接触安定槽に供給することを特徴とする下水の処理方法。
IPC (4):
C02F 3/12 ZAB ,  C02F 3/12 ,  C02F 3/34 101 ,  C02F 9/00 ZAB
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-011994
  • 特開昭55-013169

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