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J-GLOBAL ID：200903078886627127

照明装置及びそれを用いた露光装置

Inventor： 塩澤 崇永
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992193123
Publication number (International publication number)：1994013289
Application date： Jun. 25, 1992
Publication date： Jan. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な照明装置及びそれを用いた露光装置を得ること。【構成】 光源からの光束を複数の微小レンズを2次元的に配列した第1、第2オプティカルインテグレーターを介し第1集光レンズで集光して第3オプティカルインテグレーターに入射させ、該第3オプティカルインテグレーターからの光束を第2集光レンズで集光して照明したパターンを投影光学系により基板面上に投影転写する際、該第1、第2オプティカルインテグレーターの複数の微小レンズの相対的位置関係を変更し、該第3オプティカルインテグレーターの入射面の光強度分布を変更したこと。

Claim (excerpt)：

光源からの光束を複数の微小レンズを2次元的に所定のピッチで配列した第1オプティカルインテグレータと該第1オプティカルインテグレータと実質的に同じ配列ピッチの第2オプティカルインテグレータを介し第1集光レンズで集光して第3オプティカルインテグレータに入射させ、該第3オプティカルインテグレータからの光束を第2集光レンズで集光して被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影転写する際、変更手段により該第1オプティカルインテグレータと第2オプティカルインテグレータの複数の微小レンズの相対的位置関係を変更することにより該第3オプティカルインテグレータの入射面の光強度分布を変更するようにしたことを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521