Pat

J-GLOBAL ID：200903078903080471

干渉装置

Inventor： 加藤 成樹
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001342993
Publication number (International publication number)：2003148909
Application date： Nov. 08, 2001
Publication date： May. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】 被測定物の変倍情報を高精度に検出することができる干渉装置を得ること。【解決手段】 マルチモード半導体レーザからの光速を光分割手段で2つの光束に分割し、一方の光束を参照面、他方の光束を被測定物に導光し、該参照面で反射した参照光束と被測定物で反射した測定光束を合波し、該合波光束より、干渉信号を得る干渉装置において、該合波光束より、マルチモード半導体レーザから発振される光束の波長域の中から、複数の波長域に相当する光束を抽出し、該複数の波長域の合波光束より、各々干渉信号を得る干渉手段を有すること。

Claim (excerpt)：

マルチモード半導体レーザからの光束を光分割手段で2つの光束に分割し、一方の光束を参照面、他方の光束を被測定物に導光し、該参照面で反射した参照光束と被測定物で反射した測定光束を合波し、該合波光束より、干渉信号を得る干渉装置において、該合波光束より、マルチモード半導体レーザから発振される光束の波長域の中から、複数の波長域に相当する光束を抽出し、該複数の波長域の合波光束より、各々干渉信号を得る干渉手段を有することを特徴とする干渉装置。

IPC (2)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/00

FI (2)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/00 B

F-Term (27)：

2F064AA01 ,  2F064DD01 ,  2F064DD08 ,  2F064EE02 ,  2F064FF02 ,  2F064FF05 ,  2F064GG22 ,  2F064GG23 ,  2F064GG33 ,  2F064GG38 ,  2F064GG42 ,  2F064GG44 ,  2F064HH01 ,  2F064HH06 ,  2F065AA01 ,  2F065FF49 ,  2F065FF52 ,  2F065FF70 ,  2F065GG06 ,  2F065GG23 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL22 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37