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J-GLOBAL ID：200903078916249378
アンモニア性窒素含有排水の処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
畑中 芳実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994084069
Publication number (International publication number)：1995265885
Application date： Mar. 30, 1994
Publication date： Oct. 17, 1995
Summary：
【要約】【目的】 アンモニア性窒素と還元性物質とが共存する排水中のアンモニア性窒素をオゾン処理によって除去するに当たり、還元性物質に起因するアンモニア性窒素除去効率の低下やオゾン消費量の増大を防止し、効率的かつ経済的にアンモニア性窒素の除去を行うことができるアンモニア性窒素含有排水の処理装置を提供する。【構成】 前段の副反応槽4と、後段の主反応槽2と、副反応槽4への排水導入機構6と、副反応槽4から主反応槽2へ排水を移送する排水移送機構8と、主反応槽2中の排水へのオゾン添加機構10と、主反応槽2で生じた排ガスを副反応槽4中の排水に添加する排ガス添加機構14と、排水に臭素イオン含有水を添加する臭素イオン添加機構20とを備えたアンモニア性窒素含有排水処理装置。
Claim (excerpt)：
主反応槽と、主反応槽の前段に設けられた副反応槽と、副反応槽にアンモニア性窒素含有排水を導入する排水導入機構と、副反応槽から主反応槽にアンモニア性窒素含有排水を移送する排水移送機構と、主反応槽中のアンモニア性窒素含有排水にオゾンを添加するオゾン添加機構と、主反応槽で生じた排ガスを副反応槽中のアンモニア性窒素含有排水に添加する排ガス添加機構と、アンモニア性窒素含有排水に臭素イオン含有水を添加する臭素イオン添加機構とを備えたことを特徴とするアンモニア性窒素含有排水の処理装置。
IPC (3)：
C02F 1/78 ZAB
, C02F 1/58 ZAB
, C02F 1/76 ZAB
