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J-GLOBAL ID:200903079029074179
光パルス発生装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
吉田 精孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993202216
Publication number (International publication number):1995058388
Application date: Aug. 16, 1993
Publication date: Mar. 03, 1995
Summary:
【要約】【目的】 ジッターの発生を抑えて、幅の短いパルスを極めて安定に発生させる光パルス発生装置を提供すること。【構成】 アセチレンから発せられる光吸収線の周波数と半導体レーザの発振周波数を比較し、この比較結果に基づいて半導体レーザの発振周波数を安定化した半導体レーザ光源11,12からの出射光を光結合器3で合波する。さらに、この合波光を希土類添加光ファイバ増幅器4で増幅した後、この合波光の周波数に対して負の群速度分散を有する非線形光学効果発生用の光ファイバ5に入射する。これにより、光ファイバ5において誘導4光子混合により発生する多数の側帯波の周波数間隔が一定に維持されると共に、これらの位相は整合されたものとなるので、ジッターの発生を抑え、且つ高い繰り返し周期で、幅の短い光パルスを極めて安定に発生させることができる。
Claim (excerpt):
2台の種光源の出射光を合波する光結合器と、該光結合器からの出射光を増幅する光増幅器と、該光増幅器の出力側に設けられた非線形光学効果発生手段とを備えた光パルス発生装置において、前記2台の種光源の周波数を、分子吸収線を周波数基準として周波数安定化する周波数安定化手段を設けたことを特徴とする光パルス発生装置。
IPC (4):
H01S 3/10
, H01S 3/108
, H01S 3/13
, H01S 3/133
Patent cited by the Patent: