細胞培養足場および細胞培養方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉本勝徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004127341
Publication number (International publication number)：2005278609
Application date： Mar. 27, 2004
Publication date： Oct. 13, 2005
Summary：

【課題】細胞を特定の形状に誘導すること、異なる種類の細胞を制御された状態で混在したまま培養することが容易な細胞培養足場およびこの細胞培養足場を用いた細胞培養方法を提供することを目的としている。【解決手段】レーザーアブレーション法等の気相法によって形成された生体親和性を備えた生体親和性材料からなる生体親和性薄膜層を基材の表面に備えていることを特徴としている。【選択図】図1

IPC (2)：

C12M3/00 , C12N5/06

FI (2)：

C12M3/00 A , C12N5/00 E

F-Term (6)：

4B029AA02 , 4B029BB11 , 4B029CC02 , 4B029CC11 , 4B065AA90X , 4B065BC42

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

ヒドロキシアパタイトを含む細胞培養用基材及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-081083 Applicant：株式会社アドバンス

Cited by examiner (8)

高密度細胞アレイ用基板、製造法、及びその利用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-223593 Applicant：岡野光夫
マトリクスタンパク質の産生を促進する組織工学足場
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-522231 Applicant：ライスユニバーシティ
微細加工した2次元鋳型を用いる血管新生組織の加工
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-614923 Applicant：マサチューセッツジェネラルホスピタル

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

第25回日本バイオマテリアル学会大会予稿集, 20031216, 103

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