オゾン水製造装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山口哲夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997366918
Publication number (International publication number)：1999188374
Application date： Dec. 26, 1997
Publication date： Jul. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】きわめて高純度のオゾン水を製造可能とする。そして、集積回路等の半導体製造分野等において利用される洗浄を、廃液の処理コストの低減と環境破壊防止とに寄与できるオゾン水を用いたものとする。【解決手段】オゾン水製造装置は、エゼクタ60と、貯留槽70と、この貯留槽70と上記エゼクタ60とを接続する配管71と、弁手段90と、オゾン水を目的点に送出する送出管73と、を備える。上記エゼクタ60は、純水を圧入するとともにオゾンガスを吸引する。上記貯留槽70は、エゼクタ60の純水及びオゾンガスの吸引によって生じた気液混合相を滞留させる。上記弁手段90は、貯留槽70内の上記気液混合相のうち分離した気相を排出させる。これら構成各部材のうち、上記気液混合相或いはオゾン水が接触する部材を、耐オゾン性の材料により製造する。又、液位計78を非接触で計測可能なものとする。

Claim (excerpt)：

純水を圧入するとともにオゾンガスを吸引するエゼクタと、このエゼクタの純水及びオゾンガスの吸入によって生じた気液混合相を滞留させる貯留槽と、この貯留槽と上記エゼクタとを接続する配管と、上記貯留槽内の上記気液混合相から分離した気相を排出させる弁手段と、上記気液混合相のうち、気相を排出することによって得られるオゾン水を目的点に送出する送出管と、を備えたオゾン水製造装置であって、上記気液混合相或いはオゾン水が接触する部材を、耐オゾン性の材料により製造したことを特徴とする、オゾン水製造装置。

IPC (4)：

C02F 1/78 , B01F 1/00 , B01F 5/04 , C01B 13/10

FI (4)：

C02F 1/78 , B01F 1/00 A , B01F 5/04 , C01B 13/10 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

オゾン水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-037578 Applicant：日本特殊陶業株式会社
特開平2-122245
特開昭63-281021

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