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J-GLOBAL ID：200903079107807110

荷電ビーム露光における位置決め方法および線幅測定方法

Inventor： 小池 薫 ,  守屋 茂
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998044906
Publication number (International publication number)：1999243047
Application date： Feb. 26, 1998
Publication date： Sep. 07, 1999
Summary：

【要約】【課題】 電子線で接続精度測定用パターンを走査して位置検出を行う場合、大面積、太い線幅、高段差等を有する専用パターンを必要とするため、描画のスループットが低下し、かつ接続精度の正確な測定が困難になっていた。【解決手段】 設計段階では一続きとなるパターンを異なる時間に複数のパターンとして基板上に転写する荷電ビーム露光における位置決め方法において、複数のパターンとして転写されたパターン間の接続精度を、転写された複数のパターンと、設計段階で予め接続部をずらしたパターンに基づいて形成される転写パターンとの画像比較または寸法比較により測定する。

Claim (excerpt)：

設計段階では一続きとなるパターンを異なる時間に複数のパターンとして基板上に転写する荷電ビーム露光における位置決め方法において、前記複数のパターンとして転写されたパターン間の接続精度を、前記転写された複数のパターンと、設計段階で予め接続部をずらしたパターンに基づいて形成される転写パターンとの画像比較により測定することを特徴とする荷電ビーム露光における位置決め方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/02 ,  G03F 7/20 504

FI (3)：

H01L 21/30 541 K ,  G01B 11/02 Z ,  G03F 7/20 504