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J-GLOBAL ID：200903079118089848

露出制御装置および露出制御方法

Inventor：
森田 正彦

About 森田 正彦


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 國分 孝悦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999241750
Publication number (International publication number)：2001069401
Application date： Aug. 27, 1999
Publication date： Mar. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 使用、取扱性に優れ、つねに適正な露出制御を保証する露出制御装置および露出制御方法を提供する。【解決手段】 光量調節用絞りを含む被写体像を作る光学系10,11と、該光学系により作られた光学像を電気信号に変換する光電変換手段14と、撮像された画像に基づいて被写界輝度を導出する測光手段と、光電変換手段14の露出条件を制御する露出制御手段と、を含み、測光手段の測定結果に基づいて露出制御手段を制御する。測光手段は、複数の垂直同期期間に複数の露出条件で露光を行うと共に、露光によって得られた画像に基づく複数の被写界輝度の中から1つの輝度を選択して出力する第1の測光手段を含み、第1の測光手段の出力結果に基づいて露出制御を行う。
Claim (excerpt)：
光量調節用絞りを含む被写体像を作る光学系と、該光学系により作られた光学像を電気信号に変換する光電変換手段と、撮像された画像に基づいて被写界輝度を導出する測光手段と、前記光電変換手段の露出条件を制御する露出制御手段と、を含み、前記測光手段の測定結果に基づいて前記露出制御手段を制御する露出制御装置であって、前記測光手段は、複数の垂直同期期間に複数の露出条件で露光を行うと共に、露光によって得られた画像に基づく複数の被写界輝度の中から1つの輝度を選択して出力する第1の測光手段を含み、第1の測光手段の出力結果に基づいて露出制御を行うことを特徴とする露出制御装置。
IPC (2)：
H04N 5/235 ,  G03B 7/28
FI (2)：
H04N 5/235 ,  G03B 7/28
F-Term (28)：
2H002CC23 ,  2H002DB06 ,  2H002DB19 ,  2H002DB25 ,  5C022AA13 ,  5C022AB02 ,  5C022AB03 ,  5C022AB04 ,  5C022AB06 ,  5C022AB12 ,  5C022AB15 ,  5C022AB17 ,  5C022AB18 ,  5C022AB20 ,  5C022AB22 ,  5C022AB66 ,  5C022AC02 ,  5C022AC03 ,  5C022AC11 ,  5C022AC31 ,  5C022AC32 ,  5C022AC42 ,  5C022AC52 ,  5C022AC54 ,  5C022AC56 ,  5C022AC69 ,  5C022AC73 ,  5C022AC74
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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