Pat

J-GLOBAL ID：200903079122179045

微細加工ミラーの改良型光レフレクタ

Inventor： ドレイク ジョセフ ディー ,  ジャーマン ジョン エイチ
Applicant, Patent owner： シーゲイト テクノロジィ リミテッド ライアビリティ カンパニー
Agent (1)： 中村 稔 (外9名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000604256
Publication number (International publication number)：2002539472
Application date： Mar. 08, 2000
Publication date： Nov. 19, 2002
Summary：

【要約】平らな基材(146)及び平らな基材に固定された反射層(147)を有する微細加工レフレクタ。反射層は、応力を有している。追加の材料層(148)が、反射層に固定されている。追加の層は、反射層の応力に実質的に対抗する応力を有している。追加の層の応力は、反射層の応力を実質的に相殺して微細加工レフレクタの平面性を高める。

Claim (excerpt)：

微細加工レフレクタであって、平らな基材と、反射層と、反射層を平らな基材に固定する手段とを有し、反射層及び反射層を平らな基材に固定する手段は、総応力を有し、前記レフレクタは、反射層に固定された材料の追加の材料層をさらに有し、追加の材料層は、反射層と反射層を平らな基材に固定する手段の総応力に実質的に対抗する応力を有し、追加の材料層の応力は、反射層及び反射層を平らな基材に固定する手段の総応力を実質的に相殺して微細加工レフレクタの平面性を高めていることを特徴とする微細加工レフレクタ。

IPC (2)：

G02B 26/08 ,  G02B 5/08

FI (2)：

G02B 26/08 E ,  G02B 5/08 A

F-Term (9)：

2H041AA12 ,  2H041AB14 ,  2H041AZ00 ,  2H041AZ08 ,  2H042DA02 ,  2H042DA03 ,  2H042DA08 ,  2H042DA12 ,  2H042DA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 表面高反射鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-349304   Applicant：旭光学工業株式会社
• 特開平2-287301
  
• 特開平2-297501
  
• 特開平2-127601