Pat

J-GLOBAL ID：200903079123629257

ガスハイドレートによるパイプラインの閉塞を防止する方法

Inventor： 難波 多加志 ,  冨田 高史 ,  マルコム アンドリュー ケランド
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Agent (1)： 八田 幹雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000138787
Publication number (International publication number)：2000356088
Application date： May. 11, 2000
Publication date： Dec. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ガスハイドレートを形成する液体に低濃度で添加物を加えることにより、ガスハイドレート形成とパイプラインの閉塞を制御する方法を提供する。【解決手段】 化学基(1):【化1】(式中、R1、R2は水素および1〜5個の炭素原子を含む有機成分からなる群よりそれぞれ独立して選択されるものであり、R1とR2の炭素数の合計は7以下であり、R1とR2は、結合して5〜7員環を形成していてもよく、前記環は、O、N、S、P、Si原子を含むものであってもよい。)を1または2以上含む分子量1000未満のアミド化合物をクラスレートハイドレートを形成しうる系に低濃度で加える方法。

Claim (excerpt)：

クラスレートハイドレートを形成しうる系に添加物を加えることによりクラスレートハイドレートの形成および/または集塊を、阻害および/または抑制する方法において、前記添加物は、化学基(1):【化1】(式中、R1、R2は水素および1〜5個の炭素原子を含む有機化合物からなる群よりそれぞれ独立して選択されるものであり、R1とR2の炭素数の合計は7以下であり、R1とR2は、結合して5〜7員環を形成していてもよく、前記環は、O、N、S、P、Si原子を含むものであってもよい。)を1または2以上含む分子量1000未満のアミド化合物からなることを特徴とする方法。

IPC (3)：

E21B 37/06 ,  E21B 43/00 ,  F17D 1/08

FI (3)：

E21B 37/06 ,  E21B 43/00 A ,  F17D 1/08