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J-GLOBAL ID:200903079129441870

化学構築物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉武 賢次 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000574478
Publication number (International publication number):2002526512
Application date: Oct. 05, 1999
Publication date: Aug. 20, 2002
Summary:
【要約】本発明は、固相合成に用いられる化学構築物であって、連結基Yを介してそこに結合された基質Rを有する固相支持体Qを含んでなり、連結基Yは直交かつ選択的に開裂可能な第1および第2の開裂部位を有し、第2の開裂部位は選択的に開裂可能であって基質を遊離し、かつ、第1の開裂部位は第2の開裂部位と固相支持体の間の位置にあり、選択的に開裂可能であって基質と連結基Yの少なくとも一部を含んでなるフラグメントFrを遊離し、第1の開裂部位における開裂が第1の開裂部位における化学フラグメントFrに、化学フラグメントFrを例えば質量分析などの装置に増感させる増感基G(アミノ基など)を含んでなる部分を形成または導入することを特徴とする化学構築物を提供する。該構築物を使用する分析法ならびに中間構築物も提供される。
Claim (excerpt):
固相合成に用いられる化学構築物であって、基質Rを有する固相支持体Qを含んでなり、基質Rは連結基Yを介して固相支持体Qに連結され、連結基Yは直交かつ選択的に開裂可能な第1および第2の開裂部位を有し、第2の開裂部位は選択的に開裂可能であって基質を遊離し、かつ、第1の開裂部位は第2の開裂部位と固相支持体の間の位置にあり、選択的に開裂可能であって基質と連結基Yの少なくとも一部を含んでなるフラグメントFrを遊離し、第1の開裂部位における開裂が第1の開裂部位における化学フラグメントFrに、化学フラグメントFrを例えば質量分析などの装置に増感させる増感基Gを含んでなる部分を形成または導入することを特徴とする、化学構築物。
IPC (10):
C07C271/20 ZCC ,  A61K 45/00 ,  C07B 61/00 ,  C07C235/20 ,  C07C311/18 ,  C07D239/42 ,  G01N 27/62 ,  G01N 30/48 ,  G01N 33/531 ,  C07M 5:00
FI (11):
C07C271/20 ZCC ,  A61K 45/00 ,  C07B 61/00 A ,  C07B 61/00 B ,  C07C235/20 B ,  C07C311/18 ,  C07D239/42 Z ,  G01N 27/62 V ,  G01N 30/48 D ,  G01N 33/531 B ,  C07M 5:00
F-Term (12):
4C084AA17 ,  4C084AA27 ,  4C084MA01 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB80 ,  4H006AB84 ,  4H006BJ50 ,  4H006BP30 ,  4H006BR70 ,  4H006BS10 ,  4H006RA10

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